集成电路的发展是衡量一个国家经济实力和科技水平的重要标志，它需要微电子学、物理学、化学、半导体、光学、精密机械等诸多学科的交叉。1980年新华社宣布我国首创了无显影气相光刻技术，40年来，我国的光刻技术突飞猛进，集成度的迅猛提高得益于微细加工技术的不断发展，而光刻和光致抗蚀剂是微细加工的关键技术和关键材料。
UV技术应用于光致抗蚀剂，传统的光致抗蚀剂经过技术革新，衍生出化学增幅光致抗蚀剂，而193nm光刻中的光致抗蚀剂具有更高的感光灵敏度。化学增幅光致抗蚀剂就成为光刻材料研究的前沿和重点。
2020-09-29 1134
集成电路的发展是衡量一个国家经济实力和科技水平的重要标志，它需要微电子学、物理学、化学、半导体、光学、精密机械等诸多学科的交叉。1980年新华社宣布我国首创了无显影气相光刻技术，40年来，我国的光刻技术突飞猛进，集成度的迅猛提高得益于微细加工技术的不断发展，而光刻和光致抗蚀剂是微细加工的关键技术和关键材料。
UV技术应用于光致抗蚀剂，传统的光致抗蚀剂经过技术革新，衍生出化学增幅光致抗蚀剂，而193nm光刻中的光致抗蚀剂具有更高的感光灵敏度。化学增幅光致抗蚀剂就成为光刻材料研究的前沿和重点。